妙笔文学

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第170章 EUV光刻机（第2页）

其中大夏的激光产品销售也是长期达到了全球市场的百分之五十，可以说这是少有的技术领先情况！

“不行，kbbf激光晶体造不了光刻机，kbbf晶体的激光太勐了，射出的激光（euv）极深紫外光太过锋利。

一不小心就会损坏整个芯片无法使用，除非我们的控制精度与对准成像系统能达到让人惊讶的程度，否则极深紫外光我们绝对无法使用。”

目前市面上的光刻机采用的是紫外光源，紫外光源分为紫外光（ev），深紫外光（duv），极紫外光（euv）。

其中光源越到后面波长就越短，光刻的刀也就越锋利，对于精度的控制要求就越高。

所以目前世界上没有光刻机采用极深紫外光（euv），作为光源制作光刻机。

毕竟以目前几十纳米的制程工艺，也不需要这样高精密的光刻机，目前绝大部分光刻机还是使用紫外光（ev）。

只有最前沿的45纳米制程工艺，才使用euv之前的深紫外光源，也既是duv光刻机。

至于更下一步euv光刻机，那目前更是没有，之所以没有，这是因为目前没有这方面的需求。

当然真实原因是想研发这样的euv光刻机需要的成本也太高，不下于从零开始设计研发，所以目前市面上并没有这样的euv光刻机出现。

“没错，光刻机可不容易制造，你可能是其他领域的，所以有些想当然了，光是镜片就能把我们卡死。”

此时人群前排的一个博士，也说出了想造光刻机不容易。

在他看来光刻机最难的就是镜头部分。

光刻机需要的镜面误差十分之小，镜面误差不能大于零点零五微米。

这误差的范围用个形象的比喻，如果把镜面误差比喻成天涯海角岛的话，那么整个天涯海角岛的平整度误差不能大于十毫米！

而最为恐怖的是这样的镜片不只是一个，因为镜片这东西其实是有成像误差的，这成像误差在光刻生产环节的影响十分之严重。

因为偏差一点就会把整个芯片损坏，毕竟那可是几十纳米的大小，光照到了不该照的地方，最后制造成成品时肯定会短路！

所以为了解决成像误差，光刻机就需要非常多的镜片来解决成像误差的问题。

这也是为什么很多昂贵的摄像机或相机的镜头，为什么会那么长。

原因其实和光刻机面临的问题一样，为了解决成像误差的问题，所以相机镜头里面有着非常多的镜片！

这些镜片都是高精度镜片，相互之间精度要求非常之高，所以会出现一个镜头会比相机还贵的现象。

而且别的不说，就说后世的手机镜头模块里面，其实有着五到六片镜片！

而光刻机自然比相机与手机镜头要求高，所以现在的光刻机随着越来越深入几十纳米的层次。

要求越来越高，镜片的数量也越来越多，目前的光刻机镜片已经达到了十六到二十个镜片。

此时的人们不知道的是，在后世能生产几纳米芯片的euv光刻机镜片已经达到了二十九个！

这也是为什么林轩情愿花费一亿资金，也要把那堪称破烂的凤凰公司收购的原因。

因为这些镜片的要求太过严苛，为了那几个专精于镜面打磨的八级工，林轩也是舍得出一亿的资金把他们买下来！

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